页数:86页文件大小:4.13 MB来源: 材料表面工程ppt课件
本课件讲解三类高能密度表面改性技术,先说明激光的特性、产生原理与激光器种类,以及激光相变硬化、涂覆、合金化、熔凝等工艺,再介绍电子束表面处理的特点与设备,最后讲解离子注入的原理、射程分布、沟道效应与弥散强化等强化机制。
采用激光束、电子束、离子束对材料表面进行改性或合金化的技术,是近十几年迅速发展起来的材料表面新技术,是材料科学的最新领域之一,属高能密度表面处理技术。这三种技术的特点是可以对材料表面快速加热和冷却。激光表面处理工艺:激光相变硬化、激光熔覆、激光合金化、激光非晶化、激光冲击硬化等。
激光的特性激光作为一种光,它除了具有普通光的一般特性,如光的反射性、折射性、吸收性外,还具有自己的特点:即高度的方向性、单色性和亮度,是一种聚焦性好、功率密度高、易于控制、能在大气中远距离传输的新颖光源。
激光的特性1.高度的方向性
一、激光的特性
激光的特性3.高单色性科学上用光辐射能量集中的频谱区间(称谱线宽度)衡量光的单色性,谱线宽度越窄,它的单色性越好.太阳光辐射能量分布在从紫外至远红外的广阔光谱区域,所以它谈不上单色性.常用的单色光源如氖灯、氦灯、氪灯、氢灯等,它们的光辐射谱线宽度比较窄(小于4.5×10-3nm),其中氪86光源发射的红光(波长605.7nm)的谱线宽度最窄,只有4.7×10-4nm,有单色性之冠之称.激光具有相同的位相和波长,所以激光的单色性比它更好,特制发红光的He-Ne激光器,波长632.8nm的谱线宽度只有2×10-9nm!
激光表面处理设备包括:激光器、功率计、导光聚焦系统、工作台、数控系统和软件编程系统。
具有亚稳态能级结构的物质(激光介质),在激光器的谐振腔内受外界能量(光或电)的激发,产生受激辐射放大所输出的方向性、相干性很好、亮度很高的光。(一)激光的产生
§1.激光的基本原理按量子力学原理,原子只能稳定地存在于一系列能量不连续的定态中,原子能量的任何变化(吸收或辐射)都只能在某两个定态之间进行。我们把原子的这种能量的变化过程称之为跃迁。光子与物质原子相互作用过程中,存在三种类型的跃迁。
即:受激吸收、自发辐射和受激辐射。E1E3E2
如图1-1所示,有一个原子开始时处于基态E1,若不存在任何外来影响,它将保持状态不变。如果有一个外来光子,能量为hv,与该原子发生相互作用。且,其中:E2为原子的某一较高的能量状态——激发态。则原子就有可能吸收这一光子,而被激发到高能态去。
这一过程被称之为原子吸收。值得注意的是,只有外来光子的能量hv恰好等于原子的某两能级之差时,光子才能被吸收。原子吸收E1E3E2图1-1原子吸收示意图hvE1E3E2
与经典力学中的观点类似,处于高能态的原子是不稳定的。它们在激发态停留的时间非常短(数量级约为10-8s),之后,会自发地返回基态去,同时放出一个光子。这种自发地从激发态跃迁至较低的能态而放出光子的过程,叫做自发辐射。原子在激发态的平均停留时间称之为激发态的寿命。
hv图1-2自发辐射示意图E1E3E2自发辐射
自发辐射的特点是:这种过程与外界作用无关。各原子的辐射都是独立地进行。因而所发光子的频率、初相、偏振态、传播方向等都不同。不同光波列是不相干的。例如霓虹灯管内充有低压惰性气体,在管两端加上高电压来激发气体原子,当它们从激发态跃迁返回基态时,便放出五颜六色的光彩。
其频率成分极为复杂,发光方向各向都有,初位相也各不相同。这正是普通光源的自发辐射。
受激辐射处于激发态的原子,在其发生自发辐射前,若受到某一外来光子的作用,而且外来光子的能量恰好满足,原子就有可能从激发态E2跃迁至低能态E1,同时放出一个与外来光子具有完全相同状态的光子。如图1-3所示。这一过程被称为受激辐射。
Light or laser无辐射跃迁E1E2hvE1E2hvhv图1-3受激辐射示意图
这种过程是在外界光子的刺激作用下发生的,而且受激辐射出的光子,与入射光子具有相同的频率,相同的初相,相同的传播方向,相同的偏振态等。即与外来光子具有完全相同的状态。在受激辐射过程中,输入一个光子,可以得到两个状态完全相同光子的输出。
并且这两个光子可再作用于其他原子上,产生受激辐射,而获得大量特征完全相同的光子。这便是受激辐射的光放大。图1-4就是受激辐射光放大的示意图。受激辐射的特点是:hvhvhvhvhvhvhv输入输出图1-4光放大示意图
激光器知识一、激光振荡器与激光放大器1、激光振荡器(激光器)2、激光放大器二、产生与放大激光的条件形成粒子数反转(上能级粒子数>下能级粒子数)对输入的弱激光进行放大产生并输出激光
2、泵浦源(光泵、放电管)对激光工作物质进行激励以形成粒子数反转3、谐振腔(半反镜与全反镜)
四、激光器种类1、气体激光器
3、液体激光器4、半导体激光器五、能级系统1、三能级(红宝石)E1基态(激光下能级)E2亚稳态(激光上能级)E3非稳态W13S32A21W21W12W13:泵浦几率S32:非辐射跃迁几率GaAsP-GaAsn-GaAs激光
2、四能级(He-Ne、YAG、CO2)W14:泵浦几率S43、S21:非辐射跃迁几率E2非稳态(激光下能级)E3亚稳态(激光上能级)E4非稳态W14S43A32W32W23E1基态S21激光器的工作方式有连续和脉冲两种。
气体激光器工作物质:原子气体、分子气体和离子气体氦氖激光器氩离子激光器
液体激光器工作物质:有机染料溶液和无机化合物溶液。染料激光器
半导体激光器
(二)激光器激光振荡器(激光器):
(二)激光器激光振荡器(激光器):
(二)激光器在激光器中,必须使光在增益介质中来回一次所产生的增益,足以补偿光在介质来回传播中的各种损耗,这样才形成激光。激光器实现振荡所需要的最低条件,又称阈值条件。概括地讲,要形成激光,首先必须利用激励能源,使工作物质内部的一种粒子在某些能级间实现粒子数反转分布,这是形成激光的前提条件;还必须满足阈值条件,这是形成激光的决定性条件。
各种激光器都必须满足这两个条件才能形成激光。
种类
第六章表面改性技术
器:(
器(2)CO2激光器激活介质(工作气体)为CO2气体,激光波长为10. 6um,属中红外光,一般是连续输出。CO2激光器是目前连续输出功率最大的激光器,10kw以下已经系列商品化;光电转换效率高,一般为10-20%、而YAG激光器仅1-3%。
金属表面强化技术大多采用2-5kw CO2激光器。(二)激光器
(2)CO2激光器(二)激光器
1)实现粒子数反转分布的条件电激励化学激励热激励光激励(A)激励(又称泵浦)
光激励
电激励
(B)合适的能级结构二能级系统用光泵的方法不可能实现粒子数反转分布
三能级系统当泵浦光足够强时,有可能使,在能级E3于E2间实现粒子数反转。E3E12EN21N3NE0NE3E12EN21N3NE0N亚稳态能级
在E2和E1能级间也有可能实现粒子数反转。亚稳态能级NEE3E12EN21N3N0E3E12EN21N3NE0N
红宝石激光器的工作物质:红宝石——是掺有少量铬离子(Cr3+)的(Al2O3)晶体。采用光激励方法:受激和发光都在Cr3+上进行,是典型的三能级系统。
四能级系统比三能级系统容易实现粒子数反转分布。
氦氖气体激光器是四能级系统氖原子在间实现粒子数反转分布s2s1Nes3s12s32Hep2p3撞电子碰撞激发电子碰激发管壁效应自发辐射632.8nm共振转移
激光表面处理技术(一)激光束加热金属的过程激光照射到金属表面:一部分被金属表面反射,一部分进入金属表层并被吸收。激光向金属表层的热传递是通过“韧致辐射效应”实现的,即通过固体金属对激光光子的吸收而实现光---热转换。一定强度的激光照射金属表面时,入射到金属晶体中的激光光子,将与金属中的自由电子发生非弹性碰撞,光子被电子吸收。
吸收了光子的电子,跃迁到高能级状态,并将其吸收的能量转化为晶格的热振荡,使金属表层的温度迅速升高。
(一)激光束加热金属的过程由于光子穿透金属的能力极低(小于0.1um),故光子的吸收及转换为热的过程仅限于表面极薄层。由于导电电子的平均自由时间只有10-3s,所以激光的加热速度很快。金属深处的加热主要靠热传导进行。
光的吸收与以下几个因素有关
1激光束表面相变硬化激光束表面相变硬化,又称激光淬火,是以激光束快速照射工件,使表面形成奥氏体,此后急冷形成马氏体。激光表面强化应用实例:表6-29。(三)激光处理工艺及应用
2激光涂覆激光涂覆就是用激光在基体表面覆盖一层薄的具有特定性能的涂覆材料,这类涂覆材料可以是金属或合金,也可以是非金属、化合物。激光表面涂覆工艺可分为两种。一种是预涂覆法,即先把熔覆合金通过粘结、喷涂、电镀等方法预置在材料表面上,而后用激光束将其熔覆;另一种是气相送粉法,即在激光束照射基体材料表面产生熔池的同时,用惰性气体将涂层粉末直接喷到激光熔池内实现熔覆。
激光涂覆的一个特征就是覆层和基材之间实现了冶金结合。
3激光表面非晶化利用激光束连续快速扫描金属表面,使表层金属熔化,并以大于临界冷却速度激冷至其晶化温度以下,防止晶体成核和生长,从而在金属表面形成非晶,也称金属玻璃。激光非晶化又称激光上釉。激光非晶化层在金相及电镜下呈均匀的亮白色。
激光非晶层的显微硬度远高于相应成分的晶体相。此外,非晶态处理可减少表层成分偏析,消除表层缺陷,具有很好的韧性、耐磨性、耐蚀性。
4激光合金化利用激光束将一种或多种合金元素快速熔入基体表面,从而使基体表层具有特定的合金成分的技术。方法是预先在基体表面涂敷一层所需合金元素,采用激光照射,将涂敷层合金元素与基体表面薄层同时熔化、混合,形成新的表层成分、组织、性能。
激光合金化的主要优点是:激光能使难以接近的和局部的区域合金化;利用激光的深聚焦,在不规则的零件上可得到均匀的合金化深度;能准确地控制功率密度和控制加热深度,从而减小变形;可以节约大量的贵重元素。
5激光熔凝激光熔凝是用激光束将工件表面快速加热熔化,然后快速冷却凝固,获得细微组织的表面改性技术。在激光熔凝过程中,可以排除杂质和气体,同时急冷重结晶获得的组织有较高的硬度、耐磨性。
6激光气相沉积激光气相沉积是将激光用于气相沉积技术。用激光束辐照含欲沉积元素的气体或固体,使之反应或蒸发,形成欲沉积元素,在基体表面形成沉积层。
第六章表面改性技术
激光固态相变与激光熔凝长2.5米,直径50~60mm细长空心轴表面激光淬火,挠曲变形仅0.06~0.15mm挤管模具内表面激光熔凝强化曲轴激光淬火Φ720mm齿轮齿面激光淬火展板二制药机械零部件激光熔凝强化(替代进口)
表面处理是采用电子束照射金属表面,使金属表面强化的方法。一、电子束对金属的加热与激光表面加热不同,电子束表面处理时电子束照射到金属表面会同金属的原子核及电子发生相互作用。由于电子与原子核的质量相差特别大,电子与原子核的碰撞可以看作弹性碰撞,因此能量传递主要通过电子束的电子与金属表层的电子碰撞而完成的。
传递的能量以热能形式传与金属表层原子,使表层金属温度升高。
电子束表面处理技术电子束作为热源的应用领域和激光基本相同,涉及到表面相变强化、表面合金化、表面非晶化、表面涂敷等。
(4)电子束表面非晶化利用电子束连续快速扫描金属表面,使表层金属熔化,并以大于临界冷却速度激冷至其晶化温度以下,防止晶体成核和生长,从而在金属表面形成非晶。
电子束表面处理设备电子束表面处理设备包括:电子枪、真空工作室、传动机构及控制系统。电子枪是最主要的部件,其组成包括:一个用作电子发射源的灯丝,一个使电子加速的高电位阳极。传动机构有可以收缩电子束、在可调距离上聚焦的线圈和偏转移动电子束的线圈。
电子束表面处理设备电子枪室的真空度一般为1.33×10-2-1.33×10-3Pa,在灯丝中通过直流电流加热使温度高达2500℃将放出电子,这些电子被灯丝和阳极间的加速电压加速而形成高速运动的电子流,并从阳极中央的孔穿过。
利用聚焦线圈可将电子束焦点控制在所需距离上,利用偏转线圈移动电子束的位置,从而精确地控制电子束。
电子束表面处理设备电子束表面处理的工作室通常保持13.3-1.33Pa的低真空。由于在大气中电子束容易散射,使电子束能达到的距离大大缩短,所以一般不在大气中进行电子束表面处理。
技术,是指在高真空室内、将几万到几十万电子伏的高能离子束离子入射到固态材料表面,从而改变材料表面层物理、化学和力学性能的方法。将外来元素以离子的形式注入到基体内要借助于电场力、加速器将离子束加速,因此,离子注入技术与核技术的发展有关,是涉及原子物理、核物理、固体物理等多学科的一种新兴工业技术。
非弹性碰撞效应反冲注入注入溅射粒子:M0、M+、M-、Mn光子基材M通道注入二次电子X-射线反射粒子I0、I+、I-、In弹性碰撞效应
装置简图一、离子注入的原理
是在离子注入机上进行的。离子注入机由以下几个主要部分组成
第六章表面改性技术多功能离子注入设备
与基体材料表面的相互作用入射离子进入靶金属,与靶金属发生一系列的碰撞作用。这些作用主要有
在基体表面的射程分布一个原子从靶表面到其停留点的路程称为射程(R);射程在入射方向上的投影长度,称为投影射程,用RP表示。由于离子注入靶材后的碰撞是一个随机过程,具有相同初始能量的注入离子,在靶材表面的浓度、深度呈统计学的高斯函数分布。
进入靶金属,与靶金属发生一系列的碰撞作用。由于晶体的原子在空间呈规则排列,如果入射方向正好沿某个晶向,则离子在入射过程中发生的碰撞偏转会很少,阻力也比较小,透入深度则较大,这种现象称为沟道效应。沟道效应会影响离子注入后的射程分布。
离子沿晶注入的穿透较深。如果入射方向偏离晶向,碰撞会加剧,透入深度减小。而且,与入射方向偏离越大.碰撞越严重,离子透入深度越小。二、沟道效应与辐照损伤
具有高能量的离子注入晶体表面后,发生上述碰撞作用,产生能量交换,其中核碰撞产生的能量交换起主要作用。当所传递给点阵原子的能量足以使原子激活时、点阵原子离开晶格结点位置,形成一个空位-间隙原子对。若离位原子获得的能量足够大、它又与点阵中的其他原子发生碰撞,产生更多的离位原子,形成级联碰撞过程。
级联碰幢的结果在靶材的表层中产生大量的空位、间隙原子等晶格缺陷,这就是辐照损伤。二、沟道效应与辐照损伤
沟道效应与辐照损伤
离子注入除了在靶材表面增加了注人元素成分外,还在注入层中增加了许多空位、间隙原子、位错等晶体缺陷,在加热效应的作用下,间隙原子、空位的迁移,使晶体缺陷进一步发展、形成空位团、间隙原子团、位错团等,对注入层的性能有很大影响。
离子注入的特征
离子注入强化机制离子注入可提高金属材料表面的强度、硬度、耐磨性和抗蚀性:1.固溶强化离子注入是一个非平衡过程,不受热力学平衡相图的限制,可以得到过饱和固溶体。随着注入剂量的增大,过饱和程度也增大,其固溶强化效果越明显。2.位错强化离子注入在靶材金属表层造成大量的空位和间隙原子、它们在一定条件下会发生迁移,形成位错团,提高了位错密度,从而使表面强化;注入原子半径小的碳、氮或硼原子时,注入的间隙原子形成柯氏气团,强烈地抑制位错运功,起到强化作用。
强化机制3.弥散强化注入与基体金属能形成化合物的元素,在离子注入层中可能析出化合物。如,当金属中注入碳、氮、硼等非金属元素时,金属中可能析出碳化物、氮化物、硼化物,这些化合物的均匀弥散析出提高了金属的强度。
强化机制4.表层冷加工强化高能离子轰击靶金属表面,可视为原子尺寸的弹丸冲击,有类似于喷丸强化的冷加工硬化作用、在表面形成压应力,使表面层硬度、强度提高。此外,表面注入的外来原子及其造成的晶格缺陷,如间隙原子使晶格常数增大,导致基体金属表面层有膨胀倾向,但膨胀受到基体的限制,因而表层产生侧向压应力、压应力对提高疲劳强度和耐磨性能有一定贡献。
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