集成电路工艺全套11文件共712页教学PPT课件
文件数量：11个，总大小：42.06 MB，总页数：712页
本目录汇总《集成电路工艺》课程全套课件，覆盖课程介绍与半导体产业绪论，以及氧化、扩散、离子注入、光刻、刻蚀、化学气相沉积、蒸发与溅射、化学机械抛光等单项工艺原理，并给出两套CMOS工艺集成流程与总复习要点。
集成电路工艺整套ppt课件文件列表
序号目录页数大小操作
- 1 01 第一章：集成电路工艺绪论.pptx113页8.20 MB
- 2 02 第二章：氧化.pptx44页1.88 MB
- 3 03 第三章：扩散.pptx33页1.11 MB
- 4 04 第四章：离子注入.pptx47页3.69 MB
- 5 05 第五章：光刻.pptx102页10.92 MB
- 6 06 第六章：刻蚀.pptx52页3.61 MB
- 7 07 第七章：沉积.pptx55页1.93 MB
- 8 08 第八章：蒸发与溅射.pptx54页4.63 MB
- 9 09 第九章：化学机械抛光.pptx24页364.0 KB
- 10 10 第十章：工艺集成.pptx99页5.03 MB
- 11 11 集成电路工艺总复习.pptx89页719.9 KB
